Boston Micromachines Corporation(BMC)的微机电可变形反射镜和微机电分段变形镜，类型主要分为低致动器数DM、中执行器计数DM以及高执行器数MEMS可变形反射镜。
Boston Micromachines变形镜其中低制动器数MEMS反射镜是用于高级波前控制的经济且通用的像差调制解决方案，具有高达140个精确控制的元件和低致动器间耦合，Multi-DM系统是包括显微镜、天文学、视网膜成像和激光束整形应用在内的广泛应用的理想选择。这种DM可用于自适应光学或空间光调制器应用的连续和分段表面。
微机电可变形反射镜, MEMS变形镜规格：
| DM型号 | 执行器数量 | 跨孔径执行器数量 | 物理行程(μm） | 波前行程(μm) | 孔径（mm） | 螺距(μm) | 机械响应 | 更新率：标准（kHz） | 更新率：高速（kHz） | 近似执行器耦合 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Multi-C-1.5L-DM | 137 | 13 | 1.5 | 3 | 4.8 | 400 | ＜75 | 2 | 100 | 0.15 |
| Multi-3.5-DM | 140 | 12 | 3.5 | 7 | 4.4 | 400 | ＜75 | 2 | 100 | 0.13 |
| Multi-3.5L-DM | 140 | 12 | 3.5 | 7 | 4.95 | 450 | ＜75 | 2 | 100 | 0.13 |
| Multi-5.5-DM | 140 | 12 | 5.5 | 11 | 4.95 | 450 | ＜100 | 2 | 100 | 0.22 |
| 492-S-0.6-DM | 492 | 24 | 0.6 | 1.2 | 6.9 | 300 | ＜20 | 60 | n/a | 0.15 |
| 492-S-1.0-DM | 492 | 24 | 1 | 2 | 9.2 | 400 | ＜75 | 60 | n/a | 0.13 |
| 492-1.5-DM | 492 | 24 | 1.5 | 3 | 6.9 | 300 | ＜20 | 45 | 60 | 0.15 |
| 492-3.5-DM | 492 | 24 | 3.5 | 7 | 9.2 | 400 | ＜75 | 45 | 60 | 0.13 |
| 492-5.5-DM | 492 | 24 | 5.5 | 11 | 10.35 | 450 | ＜100 | 45 | 60 | 0.22 |
| 648-5.5-DM | 648 | 28 | 5.5 | 11 | 12.15 | 450 | ＜100 | 45 | 60 | 0.22 |
| Kilo-CS-0.6-DM | 952 | 34 | 0.6 | 1.2 | 9.9 | 300 | ＜20 | 60 | n/a | 0.15 |
| Kilo-CS-1.0-DM | 952 | 34 | 1 | 2 | 13.2 | 400 | ＜75 | 60 | n/a | 0.13 |
| Kilo-C-1.5-DM | 952 | 34 | 1.5 | 3 | 9.9 | 300 | ＜20 | 45 | 60 | 0.15 |
| Kilo-C-3.5-DM | 952 | 34 | 3.5 | 7 | 13.2 | 400 | ＜75 | 45 | 60 | 0.13 |
| 2K-1.5L-DM | 2040 | 50 | 1.5 | 3 | 19.6 | 400 | ＜40 | 30 | n/a | 0.15 |
| 2K-3.5-DM | 2040 | 50 | 3.5 | 7 | 19.6 | 400 | ＜75 | 30 | n/a | 0.13 |
| 3K-1.5-DM | 3063 | 62 | 1.5 | 3 | 18.3 | 300 | ＜20 | 16 | n/a | 0.15 |
| 4K-3.5-DM | 4092 | 64 | 3.5 | 7 | 25.2 | 400 | ＜75 | 16 | n/a | 0.13 |
微机电分段变形镜，MEMS可变形反射镜规格：
| DM型号 | 执行器数量 | 跨孔径执行器数量 | 物理行程（μm） | 波前行程（μm） | 孔径（mm） | 螺距（μm） | 机械响应 | 更新率：标准（kHz） | 更新率：高速（kHz） | 近似执行器耦合 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 492-S-1.0-SLM | 492 | 24 | 1 | 2 | 9.6 | 400 | ＜80 | 60 | n/a | 0 |
| 492-3.5-SLM | 492 | 24 | 3.5 | 7 | 9.6 | 400 | ＜80 | 45 | n/a | 0 |
| Kilo-CS-1.0-SLM | 952 | 34 | 1 | 2 | 13.6 | 400 | ＜80 | 60 | n/a | 0 |
| Kilo-C-3.5-SLM | 952 | 34 | 3.5 | 7 | 13.6 | 400 | ＜80 | 45 | n/a | 0 |
| 2K-1.5L-SLM | 2040 | 50 | 1.5 | 3 | 20 | 400 | ＜20 | 30 | n/a | 0 |
| 2K-3.5-SLM | 2040 | 50 | 3.5 | 7 | 20 | 400 | ＜80 | 30 | n/a | 0 |
来自Boston Micromachines Corporation(BMC)的微机电可变形反射镜和微机电分段变形镜，类型主要分为低致动器数DM、中执行器计数DM以及高执行器数MEMS可变形反射镜。
Boston Micromachines变形镜其中低制动器数MEMS反射镜是用于高级波前控制的经济且通用的像差调制解决方案，具有高达140个精确控制的元件和低致动器间耦合，Multi-DM系统是包括显微镜、天文学、视网膜成像和激光束整形应用在内的广泛应用的理想选择。这种DM可用于自适应光学或空间光调制器应用的连续和分段表面。
Multi-DM可变形镜能够实现高达 5.5 μm 的行程、2 kHz 的帧速率、亚纳米级步长且无滞后。以 X-Driver 的形式为 Multi-DM 系统提供高速电子升级。
中执行器数DM系统是高性能波前校正器，适用于天文学、激光通信和远程成像等要求严苛的应用，提供三种类型：Kilo-DM、492-DM 和 648-DM。
Kilo-DM可变形镜是用于精确、高速、高分辨率波前控制的使能组件。多达 1020 个执行器控制在1纳米以下的精度且无滞后，该系统非常适合要求严苛的应用。
作为流行的Kilo-DM可变形镜的替代品，492-DM和 648-DM可以以更低的成本使用并产生卓越的效果。492-DM和648-DM系统分别将492和648执行器的精度控制在1 nm以下且无滞后，是天文学和下一代成像应用的理想选择。
Boston Micromachines Corporation(BMC)是高执行器数MEMS变形镜技术的行业领导者，这些反射镜部署在世界各地著名的天文设施中，用以提高波前校正能力，其中4K-DM 安装在双子座行星成像仪器上2K-DM则包含在多个空间望远镜概念的设计中。
此外，2K-DM 被安装为斯巴鲁日冕仪极端自适应光学（SCExAO）仪器和麦哲伦望远镜 (MagAO-X) 的实验性日冕极端自适应光学系统中的启用组件。多年来，两者都一直在空中观测中持续运行。
微机电可变形反射镜特点：
- -大阵列产生高分辨率波前校正。
- -先进的微结构允许对高空间频率表面的相邻执行器之间的影响最小
- -优化设计可实现高速应用的快速波前整形
可变形镜可用的选项：
| 变形镜 | 镀层 | 窗口AR镀层（nm） | 驱动* |
|---|---|---|---|
| Multi | 铝金防护银 | 400-1100 550-2500 650-1050 1050-1700 1550 | Multi-Driver X-Driver |
| 492 648 ** Kilo | 400-1100 550-2500 1550 | S-Driver ** Kilo-Driver Kilo-Low-Latency-Driver |
|
| 2K 3K 4K | 400-1100 550-2500 1550 | +K Driver |
自适应光学元件套件
自适应光学元件套件是一种完整的自适应光学元件成像方案，它包含一个可变形反射镜、一个波前传感器、控制软件和装配所需的光力学元件。这些小型精密波前控制器件在光束形成、显微、激光通讯和视网膜成像中有具有重作用。其中有带有140或32个致动器的镀金膜或铝膜的可变形反射镜，以及基于15赫兹CCD或450赫兹CMOS Shack-Hartmann波前传感器可供选择。
特性
完整的套件和软件提供开箱即用的波前测量和控制
套件包括
·连续可变形反射镜
·Shack-Hartmann波前传感器
·激光二极管模块（635纳米）
·所有所需的成像光学元件和相关安装硬件
·适用于Windows操作系统的功能全面的独立控制软件
·SDK可以为终端用户提供定制应用
我们根据下列规格提供8种套件：
·镀铝膜或金膜的可变形反射镜
·带32或140个致动器的可变形反射镜
·15赫兹CCD或450赫兹CMOS Shack-Hartmann波前传感器
MEMS可变形反射镜
·6 x 6（Mini-DM）或12 x 12（Multi-DM）致动器类型可供选择
·3.5微米最大致动器位移
·可达3.5千赫兹的高速操作
·400微米中心对中心致动器间距，致动器间的低耦合效应可实现高空间分辨率
·零磁滞致动器位移
·14位驱动电路可实现亚纳米量级的重复性
·内置高电压电源的紧凑型驱动电路，适用于工作台或OEM集成
Boston Micromachines Corporation（BMC）公司提供迷你型和多重型基于微机电（MEMS）技术的可变形反射镜，作为我们自适应光学元件套件中的部件。这些可变形反射镜（DM）极其适合高级光波波前控制；他们可以对高度变形的波前进行单色像差（球差、彗差、象散、场曲或畸变）校正。目前，MEMS可变形反射镜是波前整形应用中广泛应用的器件，该反射镜技术成熟、用途广泛，具有高分辨率的波前校正性能。
MEMS可变形反射镜结构
可变形反射镜采用多晶硅表面微加工制作工艺进行制作，经过简易包装，可以提供复杂的像差补偿。该反射镜包含一个反射镜薄膜，它通过32个静电致动器（对应Mini-DM，一个6 x 6 致动器阵列，四角上为四个闲置致动器）或140个静电致动器（对于Multi-DM，一个12 x 12 致动器阵列，四角上为四个闲置致动器）进行变形。这些致动器可以提供3.5微米的行程（632.8纳米下可以通过11个波前），并且具有零磁滞特性。
这些反射镜可以镀金反射膜铝反射膜每个反射镜都用一个6°楔形保护窗进行包装，该窗口镀有对应400-1100纳米波长范围的增透膜。
Shack-Hartmann波前传感器
·高灵敏度型：基于CCS，可达λ/50 RMS
·高速型：基于CMOS，可达450 Hz
·波长范围：300 – 1100纳米
·实时波前和强度分布测量
·接近衍射极限光斑尺寸
·可用于连续波和脉冲光源
·灵活的数据导入操作（Text或Excel）
·可通过TCP/IP进行实时数据读取
这些Shack-Hartmann波前传感器可以探测波前中的失真，并通过可变形反射镜进行校正。
基于CMOS的450 Hz传感器
CMOS技术的本质特性使其极其适合用于快速波前传感器。由于CMOS传感器中每个像素都具有其自己的独立电路，在只有部分传感器数据被读取的窗口技术中具有优势。该信号可以仅从传感器上部分区域进行快速读取，而不像CCD系统中对整个传感器进行序列数据读取。这样一来，目标区域（AOI）就可以被缩小从而得更高的帧速，并且可达450Hz*。在自适应套件中采用的分辨率设置下，可以~100Hz的帧速进行工作。
对于450 Hz的帧速，必须采用180 x 180的像素分辨率。该速度取决于计算机硬件速度，不需要图形显示就可以实现，并假设符合5阶泽尼克多项式和小曝光时间。
130万像素CCD传感器
130万像素波前传感器具有λ/50 RMS的较高波前灵敏度，这是因为CCD传感器提高了空间分辨率（4.65微米的像素间距）。该传感器以15赫兹的帧速进行工作。
